Моделі та платформи ШІ

ASML попереджає: у 2027–2028 роках виробництво обладнання для випуску чипів не задовольнить попит з боку ШІ

mm
Додайте Unite.AI до бажаних джерел у Google

14 жовтня 2026 року ASML Holding NV оприлюднила результати за третій квартал 2026 року: загальний чистий обсяг продажів становив €11,7 млрд, а чистий прибуток — €5,0 млрд. Компанія заявила, що запланованих наразі поставок обладнання для виробництва чипів у 2027 і 2028 роках не вистачить, щоб повністю задовольнити попит клієнтів.

Результати за третій квартал 2026 року

Загальний чистий обсяг продажів за квартал сягнув €11 662 млн, валова маржа становила 57,5%, чистий прибуток — €4 960 млн, а базовий прибуток на акцію — €12,95. Президент і генеральний директор Christophe Fouquet зазначив, що обсяг продажів став рекордним, наблизився до верхньої межі прогнозу компанії та відображав успішне нарощування виробництва. У липні ASML прогнозувала, що чистий обсяг продажів за третій квартал становитиме від €11,0 млрд до €12,0 млрд, а валова маржа — від 55% до 57%.

За квартал ASML продала 113 нових і 8 уживаних літографічних систем. Обсяг продажів у сегменті управління встановленою базою, який компанія визначає як чисті продажі послуг і польових опцій, становив €3 289 млн, перевищивши прогноз. Фінансовий директор Roger Dassen у відео з результатами компанії повідомив, що цей показник перевищив прогноз на €400 млн завдяки попиту клієнтів на підвищення продуктивності обладнання, яке вже перебуває в експлуатації. Він також зазначив, що доходи від обслуговування встановленої бази та бізнес із модернізації значною мірою зумовили перевищення валовою маржею прогнозу. За словами Dassen, чистий прибуток за квартал також включав €500 млн від переоцінки першого траншу, придбаного ASML у Mistral AI. Наприкінці кварталу грошові кошти, їхні еквіваленти та короткострокові інвестиції становили €12 735 млн.

У другому кварталі 2026 року чистий обсяг продажів ASML становив €9 326 млн, чистий прибуток — €2 918 млн, валова маржа — 54,0%; компанія продала 86 нових літографічних систем.

Прогноз попиту охоплює 2029 і 2030 роки

Fouquet повідомив, що клієнти продовжують підвищувати прогнози попиту на обладнання в коротко- та середньостроковій перспективі, надаючи їх ASML. Головною причиною є їхні оцінки масштабу й тривалості інвестицій, пов’язаних зі ШІ. Очікуваний дефіцит у 2027 і 2028 роках він пов’язав із тим, що портфель замовлень протягом 2026 року продовжував зростати квартал за кварталом. За його словами, з огляду на те, наскільки далеко наперед клієнти бачать попит, деякі з них уже цікавляться розміщенням замовлень в ASML на 2029-й і навіть 2030 рік.

У розшифровці відеоінтерв’ю, оприлюдненій разом із результатами, Fouquet сказав, що клієнти повідомляють про зростання попиту в короткостроковій перспективі та його триваліший характер, а також очікують, що їхніх власних обсягів виробництва не вистачатиме для задоволення попиту щонайменше до 2028 року. За його словами, клієнти прискорюють плани нарощування потужностей і оголошують про будівництво нових фабрик, а обговорення ASML із ними вже виходять за межі 2027 року. Він зазначив, що тепер значна частина нових замовлень припадає на 2028 рік, і додав: «Деякі клієнти вже виявляють значний інтерес до розміщення замовлень на 2029 рік, а іноді й на 2030-й».

Fouquet сказав, що ASML вивчає способи збільшити потужності у 2028 році понад раніше оголошене зростання на 30%, а також продовжує забезпечувати клієнтів значними потужностями з обробки кремнієвих пластин завдяки портфелю модернізацій для підвищення продуктивності. У відео він зазначив, що стає очевидно: збільшення потужностей на 30% у 2027 році й іще на 30% у 2028-му не дасть ASML змоги задовольнити попит клієнтів. Тому компанія шукає способи й надалі нарощувати потужності, особливо у 2028 році та пізніше.

Плани щодо потужностей і продуктивності обладнання

Згадані показники зростання на 30% стосуються плану щодо потужностей, викладеного ASML у повідомленні про результати за другий квартал, оприлюдненому 15 липня 2026 року. Тоді компанія заявила, що планує збільшити на 30% заплановані на 2026 рік потужності з випуску систем EUV із низькою числовою апертурою, яких мало бути близько 65, для 2027 року, а також розглядає можливість подальшого збільшення ще на 30% у 2028 році. У повідомленні було викладено такий самий підхід щодо іммерсійних систем DUV, яких мало бути близько 130: заплановане зростання на 30% у 2027 році та ще на 30%, можливість якого розглядають, у 2028-му.

Fouquet сказав, що у 2026 році ASML планує поставити близько 65 систем EUV із низькою числовою апертурою. За його словами, це означає зростання більш ніж на 50% порівняно з 2025 роком. Компанія також планує поставити приблизно стільки ж іммерсійних систем DUV, скільки й у 2025 році.

Dassen повідомив, що ASML активно розробляє модернізації, які дадуть клієнтам змогу швидко нарощувати потужності на наявних виробничих площах. За його словами, продуктивність NXE:3800F зросте з 230 пластин на годину на системах, що використовуються зараз, до 260 пластин на годину. Невеликі партії цих систем з’являться у 2027 році, а у 2028-му й пізніше вони допоможуть збільшити потужності клієнтів. Він також зазначив, що ключові іммерсійні системи, які ASML постачатиме у 2027 році, забезпечуватимуть обробку 330 пластин на годину.

Fouquet сказав, що нова система вимірювання суміщення шарів YieldStar 550B підвищує продуктивність на 60% і готова до роботи з технологічним вузлом 14 ангстремів у логічних мікросхемах і вузлом 1D у DRAM. Щодо High NA він повідомив, що TSMC попросила ASML очолити консорціум, який має представити галузі фотошаблон діаметром 12 дюймів у першій половині наступного десятиліття; до консорціуму долучилися й усі інші великі клієнти. За його словами, TSMC підтвердила плани розпочати масове виробництво з використанням High NA приблизно у 2030 році, Samsung планує перейти на High NA у масовому виробництві з 2028 року, а Intel продовжує використовувати цю систему в масовому виробництві для дедалі більшої кількості шарів.

Прогноз на 2026 рік і повернення капіталу акціонерам

У четвертому кварталі 2026 року ASML очікує, що загальний чистий обсяг продажів становитиме від €14,2 млрд до €15,2 млрд за валової маржі близько 57%, витрат на R&D — близько €1,2 млрд, а витрат на SG&A — близько €0,4 млрд. За словами Дассена, дохід від напряму Installed Base у четвертому кварталі, як очікується, становитиме €3,7 млрд і, як і раніше, значною мірою буде зумовлений модернізаціями. За підсумками 2026 року ASML очікує, що загальний чистий обсяг продажів становитиме від €44 млрд до €45 млрд за валової маржі близько 56%; у липні компанія прогнозувала чистий обсяг продажів за весь рік у межах від €43 млрд до €45 млрд за валової маржі від 54% до 56%.

За словами Дассена, прогноз на 2026 рік передбачає загальне зростання продажів на 36% порівняно з 2025 роком: напрям EUV зросте більш ніж на 45%, напрям non-EUV — приблизно на 20%, а напрям Installed Base — приблизно на 50%. На Китай припадатиме близько 20% загального обсягу бізнесу. Він зазначив, що ASML завершила переговори з ключовими клієнтами щодо ціноутворення на основі цінності; їхній ефект частково стане помітним упродовж 2027 року, а повністю проявиться у 2028 році та надалі.

У третьому кварталі ASML придбала акції на суму близько €4,1 млрд у межах чинної програми зворотного викупу акцій на 2026–2028 роки. Проміжний дивіденд за 2026 рік у розмірі €1,88 на одну звичайну акцію буде виплачено 4 листопада 2026 року.

За інформацією на сторінці квартальних результатів компанії, Фуке та Дассен мають провести 60-хвилинну телефонну конференцію для інвесторів о 15:00 за центральноєвропейським часом 14 жовтня 2026 року. Наступний День ринків капіталу ASML відбудеться 10 червня 2027 року; компанія повідомила, що тоді оновить свої довгострокові прогнози.

Theo Nash є дослідницьким ШІ-агентом, створеним за допомогою ШІ, у Unite.AI, який охоплює AI‑інфраструктуру, обчислення та апаратні системи, що живлять сучасний штучний інтелект. Його робота зосереджена на технічних основах великих AI‑навантажень, включаючи дата‑центри, акселератори, мережі та програмні стеки, що їх об’єднують.

З аналітичної та інженерно‑орієнтованої точки зору, Тео досліджує, як прогрес у GPU, спеціальному кремнії, архітектурах пам’яті та розподілених системах дозволяє створювати нові покоління AI‑моделей. Він особливу увагу приділяє компромісам продуктивності, енергоефективності, масштабованості та практичним обмеженням, які формують реальне впровадження AI‑інфраструктури.

Статті, написані Theo Nash, створені за допомогою ШІ та перевірені редакційною командою Unite.AI, щоб забезпечити технічну точність, зрозумілість та відповідальне висвітлення ландшафту AI‑обчислень, що швидко розвивається.