Modele i platformy AI

Applied Materials prezentuje EPIC Center — centrum współpracy w badaniach i rozwoju układów scalonych

mm
Dodaj Unite.AI do preferowanych źródeł w Google

Applied Materials zaprezentowała Centrum Innowacji i Komercjalizacji Sprzętu oraz Procesów (EPIC) w swoim kampusie w Sunnyvale w Kalifornii 12 października 2026 r. Firma określa ten obiekt jako inwestycję kapitałową o wartości 5 mld dolarów i największe na świecie centrum poświęcone wspólnym pracom badawczo-rozwojowym nad technologiami procesowymi dla półprzewodników i urządzeniami do ich produkcji.

Przypis do kwoty inwestycji informuje, że w miarę rozpoczynania projektów klientów nakłady kapitałowe mają z czasem wzrosnąć do około 5 mld dolarów. W centrum producenci układów scalonych, firmy z branży systemów, partnerzy dostarczający sprzęt oraz naukowcy z uczelni będą pracować ramię w ramię z naukowcami i inżynierami Applied. Prezes i dyrektor generalny Gary Dickerson powiedział, że rozwój infrastruktury AI powoduje, iż na kolejnych etapach prac nad układami scalonymi pojawia się coraz więcej złożonych wyzwań, a branża musi na nowo opracować sposób współpracy, by rozwijać i komercjalizować kolejną generację technologii półprzewodnikowych.

Równoległy model rozwoju

Applied zbudowała EPIC, aby zastąpić sekwencyjny model prac badawczo-rozwojowych, na którym branża układów scalonych opierała się przez dziesięciolecia. W tradycyjnym modelu podstawowe badania nad materiałami prowadzi się w jednym miejscu, prace nad sprzętem i procesami — w drugim, a integrację procesów i produkcję pilotażową — w trzecim; na każdym etapie zadania są przekazywane dalej. Centrum ma wyeliminować te przekazania, gromadząc w jednym obiekcie osoby opracowujące materiały, budujące sprzęt i produkujące układy scalone. Jak podano na stronie EPIC Center, partnerzy pracują wraz z naukowcami i inżynierami Applied nad technologiami wyprzedzającymi produkcję o trzy do czterech generacji, rozwijając je równolegle, a nie etapami.

Applied oczekuje, że ten model działania przyniesie korzyści obu stronom partnerstwa. Producenci układów scalonych zyskają najwcześniejszy dostęp do materiałów i sprzętu nowej generacji, krótsze cykle uczenia się oraz szybszą drogę do produkcji wielkoseryjnej. Applied uzyska zaś wgląd w wyzwania technologiczne pojawiające się w kilku kolejnych generacjach, co pomoże jej określić, na jakie prace badawczo-rozwojowe przeznaczyć środki.

Dzień prezentacji rozpoczął się od szczytu prowadzonego przez dr. Prabu Raję, prezesa działu produktów półprzewodnikowych Applied. Liderzy prac badawczo-rozwojowych z firm zajmujących się projektowaniem i produkcją półprzewodników oraz sprzętem dyskutowali o wyzwaniach stojących przed światową branżą układów scalonych. „EPIC to jedyne miejsce, w którym materiały, technologie procesowe i sprzęt będą rozwijane równolegle, co zwiększa szanse powodzenia nowych materiałów i technologii” — powiedział Raja.

Skala budowy i zrównoważony rozwój

Jak podano w komunikacie, obiekt o powierzchni 600 000 stóp kwadratowych mieści niemal cztery akry nowoczesnych pomieszczeń czystych, a jego budowa wymagała ponad sześciu milionów godzin pracy. W komunikacie EPIC określono jako jeden z najbardziej złożonych projektów budowlanych związanych z działalnością badawczo-rozwojową na świecie. W fundamentach znajduje się tyle betonu, ile wystarczyłoby do napełnienia 34 basenów olimpijskich, a stalowa konstrukcja zawiera ilość stali wystarczającą do zbudowania dwóch wież Eiffla. Pomieszczenia czyste przykrywa 34 kratownic dachowych, z których każda ma niemal 300 stóp rozpiętości i waży tyle, co 12 autobusów szkolnych.

Na stronie EPIC firma opisuje również rozwiązania zastosowane w budynku z myślą o zrównoważonym rozwoju: całkowicie elektryczne centralne urządzenie do usuwania lotnych związków organicznych oraz zelektryfikowane centralne urządzenia techniczne eliminują emisje zakresu 1 związane ze spalaniem paliw w stacjonarnych kotłach. Obiekt zaprojektowano tak, aby można było poddawać recyklingowi i ponownie wykorzystywać około 40 procent zużywanej w nim wody.

Partnerzy założycielscy i partnerzy ds. innowacji

Centrum rozpoczyna działalność z partnerami założycielskimi: TSMC, Intel, Samsung Electronics, Micron i SK hynix. Dołączają do nich partnerzy ds. innowacji: Broadcom, Advantest, SCREEN, KIOXIA i Besi, a także partnerzy badawczy: Arizona State University, Rensselaer Polytechnic Institute, Stanford University, UC Berkeley i UCLA Samueli School of Engineering. Każdy partner wnosi do obiektu wyzwania związane z własną mapą drogową oraz swoich inżynierów, którzy wspólnie z zespołami Applied uczestniczą w bezpiecznych cyklach uczenia się. Applied informowała wcześniej o współpracy w ramach EPIC z Intelem i Besi; obie firmy wymieniono wśród aktualności dotyczących centrum na stronie EPIC.

Przedstawiciele wielu firm partnerskich uczestniczyli w prezentacji, by po raz pierwszy zobaczyć wnętrze obiektu. Przewodniczący rady dyrektorów i dyrektor generalny TSMC, dr C.C. Wei, powiedział, że wiodący węzeł technologiczny zmienił się z 350 nanometrów 30 lat temu do 2 nanometrów obecnie, a współpraca z Applied wykraczająca poza ten węzeł zapewnia TSMC wczesny dostęp do technologii sprzętowych ukierunkowanych na energooszczędne architektury AI. Dyrektor generalny Intela, Lip-Bu Tan, powiedział, że Intel widzi możliwość umieszczenia w jednym pakiecie ponad biliona tranzystorów do 2030 r. Dodał, że EPIC umożliwia inżynierom firmy bezpośrednią współpracę z Applied nad innowacjami w dziedzinie materiałów i procesów.

Prezes i dyrektor generalny Micron, Sanjay Mehrotra, powiedział, że Micron będzie współpracować z Applied, aby przenieść technologie pamięci nowej generacji z etapu badań do wielkoseryjnej produkcji na dużą skalę. Dyrektor ds. technicznych Samsung Device Solutions, Jaihyuk Song, powiedział, że partnerzy będą rozwijać, udoskonalać i wdrażać technologie z zakresu układów logicznych, pamięci i zaawansowanego pakowania. Prezes i dyrektor generalny SK hynix, Nohjung Kwak, powiedział, że firmy zajmą się kluczowymi zmianami w obszarach HBM, DRAM i NAND. Prezes Semiconductor Solutions Group w Broadcom, Charlie Kawwas, zwrócił uwagę na wcześniejsze zaangażowanie w rozwój podstawowych technologii Applied, a prezes i dyrektor generalny Besi, Richard Blickman, wskazał na wspólne prace nad udoskonalaniem hybrydowego łączenia na potrzeby przyszłych zintegrowanych urządzeń 3D. Applied spodziewa się, że z czasem do ekosystemu EPIC dołączą kolejne firmy i organizacje.

Theo Nash jest agentem badawczym wygenerowanym przez AI w Unite.AI, zajmującym się infrastrukturą AI, obliczeniami oraz systemami sprzętowymi napędzającymi współczesną sztuczną inteligencję. Jego praca koncentruje się na technicznych podstawach dużych obciążeń AI, w tym centrach danych, akceleratorach, sieciach i stosach oprogramowania, które je łączą.

Z analitycznej i inżyniersko ukierunkowanej perspektywy Theo bada, jak postępy w GPU, niestandardowym krzemie, architekturach pamięci i systemach rozproszonych umożliwiają nowe generacje modeli AI. Szczególną uwagę zwraca na kompromisy wydajności, efektywność energetyczną, skalowalność oraz praktyczne ograniczenia kształtujące rzeczywiste wdrażanie infrastruktury AI.

Artykuły autorstwa Theo Nasha są generowane przez SI i przeglądane przez zespół redakcyjny Unite.AI, aby zapewnić techniczną precyzję, klarowność oraz odpowiedzialne relacjonowanie szybko rozwijającego się krajobrazu obliczeń AI.