Baseten aggiunge Gen-4.5 e Aleph 2.0 di Runway all’inferenza dedicata

Secondo l’annuncio di Baseten del 14 ottobre 2026, le aziende possono ora distribuire su Baseten i modelli di Runway per la generazione e la modifica di video Gen-4.5 e Aleph 2.0, comprese le versioni ottimizzate tramite fine-tuning, in ambienti sicuri a tenant singolo. I modelli sono disponibili tramite Baseten Dedicated Inference, con licenze per i pesi dei modelli concesse direttamente da Runway.

Secondo Baseten, Runway sviluppa modelli che generano e modificano video cinematografici usando testo, immagini, audio e filmati esistenti. Runway offre già Gen-4.5 e Aleph 2.0 tramite Runway Creative, la sua piattaforma per generare e modificare video, immagini e audio, e tramite Runway Dev, la sua piattaforma API per sviluppatori. Baseten ha dichiarato che la collaborazione aggiunge una nuova modalità: Runway rende disponibili i propri modelli video proprietari per la distribuzione dedicata su Baseten.

Generazione con Gen-4.5 e modifica con Aleph 2.0

Gen-4.5 trasforma input testuali e immagini in video e supporta indicazioni dettagliate per le scene, movimenti di macchina e un’ampia gamma di stili visivi. Tra gli usi elencati da Baseten figurano la visualizzazione di uno storyboard, l’animazione di un’immagine di prodotto, la creazione di sequenze B-roll cinematografiche e l’adattamento di un’idea per una campagna in più varianti.

La libreria di modelli di Baseten descrive Gen-4.5 come un modello di generazione video sviluppato da Runway, capace di offrire movimento cinematografico, precisa aderenza ai prompt, fisica realistica e qualità visiva costante, con un’elevata coerenza temporale sia nelle estetiche fotorealistiche sia in quelle stilizzate. La scheda della libreria indica input testuali e immagini, output video e una licenza proprietaria di Runway.

Aleph 2.0 modifica filmati generati o reali. Partendo da un prompt o da un fotogramma chiave modificato, gli utenti possono cambiare un elemento specifico o rielaborare lo stile di una scena, quindi applicare la modifica alle inquadrature pertinenti preservando i dettagli circostanti. Il modello supporta video con più scene fino a 30 secondi a 1080p.

La libreria di Baseten descrive Aleph 2.0 come un modello di montaggio video contestuale che trasforma filmati esistenti in nuove varianti senza dover effettuare nuove riprese o ricorrere a un’intensa post-produzione. Secondo la scheda, può modificare prodotti, abiti, acconciature, sfondi, stagioni, inquadrature e stili visivi in più riprese; sono inoltre indicati input testuali, immagini e video, output video e una licenza proprietaria di Runway.

Licenze, isolamento e sicurezza

I clienti ottengono direttamente da Runway la licenza per i pesi dei modelli e li distribuiscono in un ambiente sicuro a tenant singolo su Baseten. Ogni distribuzione viene eseguita in un piano di carico di lavoro isolato, con risorse GPU dedicate, mentre Baseten gestisce il piano di controllo e l’infrastruttura sottostante. Runway e Baseten forniscono supporto congiunto per ogni distribuzione, dalla personalizzazione del modello fino alla messa in produzione.

In base all’accordo, le risorse di calcolo e la pianificazione sono isolate per l’organizzazione cliente. L’accesso di Baseten ai pesi dei modelli di Runway è regolato da un accordo di distribuzione e le distribuzioni vengono eseguite su un’infrastruttura coperta dai programmi di conformità SOC 2 Type II e HIPAA di Baseten.

La documentazione di Baseten sull’architettura a tenant singolo fornisce ulteriori dettagli architetturali. Specifica che l’architettura a tenant singolo esegue i carichi di lavoro di inferenza in una VPC isolata su Baseten Cloud, con risorse di calcolo e rete predisposte e gestite per una sola organizzazione, e che su tale infrastruttura non vengono eseguiti carichi di lavoro di altri clienti. Secondo la documentazione, Baseten non memorizza gli input o gli output dell’inferenza sincrona; i modelli possono recuperare i pesi da una fonte privata e questi possono essere memorizzati nella cache all’interno del cluster per accelerare l’avvio a freddo. Su richiesta, le repliche dei modelli e i servizi di supporto possono essere eseguiti senza accesso diretto a Internet, limitando il traffico in uscita a un elenco di elementi autorizzati; inoltre, gli endpoint possono essere esposti tramite servizi di rete privata come AWS PrivateLink o Google Cloud Private Service Connect, in modo che il traffico non transiti sulla rete Internet pubblica. La documentazione specifica che l’architettura a tenant singolo supporta gli stessi programmi di conformità di Baseten Cloud, che comprendono SOC 2 Type II, HIPAA e GDPR, ed è disponibile con prezzi personalizzati nel piano Enterprise.

La pagina del prodotto Dedicated Inference di Baseten specifica che le distribuzioni dedicate sono a tenant singolo, possono essere vincolate a una regione e sono conformi a HIPAA e certificate SOC 2 Type II su Baseten Cloud. I clienti possono distribuire su Baseten Cloud, ospitare autonomamente il servizio o usare Baseten Hybrid, con scalabilità automatica su nodi, cluster, cloud e regioni.

Ottimizzazione tramite fine-tuning, capacità riservata e disponibilità

I clienti possono ottimizzare i modelli di Runway tramite fine-tuning sui propri dati, così che i risultati rispecchino il loro marchio, il loro canone e le loro linee guida sui contenuti. Il lavoro è regolato dalla licenza diretta con Runway, mentre Baseten fornisce l’infrastruttura necessaria per eseguire il fine-tuning e distribuire il modello risultante in un ambiente dedicato.

Le distribuzioni includono capacità GPU riservata per i carichi di lavoro di generazione video, con scalabilità automatica per gestire i picchi di domanda. Nel modello a tenant singolo, Baseten acquisisce e gestisce la capacità per ogni piano di carico di lavoro dedicato; i clienti collaborano con il team di Baseten per scegliere le regioni, i tipi di GPU e gli impegni di capacità più adatti ai requisiti dei carichi di lavoro.

Baseten ha dichiarato che Amazon, Robinhood, Dolce & Gabbana e Microsoft sono tra i team creativi aziendali che già utilizzano Runway in produzione. L’azienda ha affermato che supporta le distribuzioni dedicate con uno SLA di disponibilità del 99,99% e che entrambi i modelli Runway sono inclusi nella libreria di modelli di Baseten per le richieste di distribuzione.