Baseten Menambahkan Gen-4.5 dan Aleph 2.0 dari Runway ke Layanan Inferensi Khusus

Menurut pengumuman Baseten pada 14 Oktober 2026, kini perusahaan dapat menerapkan model Runway untuk pembuatan dan penyuntingan video, Gen-4.5 dan Aleph 2.0—termasuk versi yang telah disetel secara khusus—di lingkungan aman khusus untuk satu pelanggan di Baseten. Model-model tersebut tersedia melalui Baseten Dedicated Inference, dengan bobot model yang dilisensikan langsung dari Runway.

Menurut Baseten, Runway mengembangkan model untuk membuat dan menyunting video sinematik menggunakan teks, gambar, audio, dan rekaman yang sudah ada. Runway telah menawarkan Gen-4.5 dan Aleph 2.0 melalui Runway Creative, platformnya untuk membuat dan menyunting video, gambar, dan audio, serta melalui Runway Dev, platform API-nya untuk pengembang. Baseten mengatakan bahwa kemitraan ini menghadirkan opsi baru: Runway menyediakan model video proprieternya untuk diterapkan secara khusus di Baseten.

Pembuatan dengan Gen-4.5 dan Penyuntingan dengan Aleph 2.0

Gen-4.5 mengubah masukan teks dan gambar menjadi video, serta mendukung arahan adegan yang terperinci, pergerakan kamera, dan beragam gaya visual. Baseten mencantumkan beberapa kegunaan, termasuk memvisualisasikan papan cerita, menganimasikan gambar produk, membuat cuplikan pendukung sinematik (B-roll), dan mengadaptasi konsep kampanye menjadi beberapa variasi.

Pustaka model Baseten menjelaskan Gen-4.5 sebagai model pembuatan video yang dikembangkan oleh Runway, dengan gerakan sinematik, kepatuhan yang akurat terhadap perintah, fisika yang realistis, dan kualitas visual yang konsisten, serta konsistensi temporal yang kuat dalam estetika fotorealistis maupun bergaya. Entri pustaka tersebut mencantumkan masukan teks dan gambar, keluaran video, serta lisensi proprieter Runway.

Aleph 2.0 memodifikasi rekaman hasil generasi maupun rekaman nyata. Dengan memulai dari perintah atau bingkai utama yang telah disunting, pengguna dapat mengubah elemen tertentu atau mengubah gaya adegan, lalu menerapkan suntingan itu ke cuplikan terkait sambil mempertahankan detail di sekitarnya. Model ini mendukung video dengan beberapa adegan hingga 30 detik pada resolusi 1080p.

Pustaka Baseten menjelaskan Aleph 2.0 sebagai model penyuntingan video kontekstual yang mengubah rekaman yang sudah ada menjadi variasi baru tanpa pengambilan gambar ulang atau pascaproduksi yang ekstensif. Menurut entri tersebut, model ini dapat memodifikasi produk, pakaian, gaya rambut, latar belakang, musim, pembingkaian, dan gaya visual di beberapa cuplikan; entri itu juga mencantumkan masukan teks, gambar, dan video, keluaran video, serta lisensi proprieter Runway.

Lisensi, Isolasi, dan Keamanan

Pelanggan melisensikan bobot model Runway secara langsung dari Runway dan menerapkannya di lingkungan aman khusus untuk satu pelanggan di Baseten. Setiap penerapan berjalan di bidang beban kerja yang terisolasi, dengan sumber daya GPU khusus, sementara Baseten mengelola bidang kendali dan infrastruktur yang mendasarinya. Runway dan Baseten bersama-sama mendukung setiap penerapan, mulai dari penyesuaian model hingga penyajian dalam produksi.

Dalam pengaturan ini, komputasi dan penjadwalan diisolasi untuk organisasi pelanggan. Akses Baseten ke bobot model Runway diatur oleh perjanjian distribusi, dan penerapan berjalan di infrastruktur yang tercakup dalam program kepatuhan SOC 2 Type II dan HIPAA milik Baseten.

Dokumentasi lingkungan khusus untuk satu pelanggan dari Baseten menambahkan detail arsitektur. Dokumentasi itu menyatakan bahwa lingkungan khusus untuk satu pelanggan menjalankan beban kerja inferensi dalam VPC terisolasi di Baseten Cloud, dengan komputasi dan jaringan yang disediakan serta dioperasikan untuk satu organisasi; tidak ada beban kerja pelanggan lain yang berjalan di infrastruktur tersebut. Menurut dokumentasi itu, Baseten tidak menyimpan masukan atau keluaran inferensi sinkron, model dapat mengambil bobot dari sumber privat, dan bobot dapat disimpan dalam tembolok di dalam klaster untuk mempercepat proses mulai dingin. Jika diminta, replika model dan layanan pendukung dapat berjalan tanpa akses internet langsung, dengan lalu lintas keluar dibatasi pada daftar izin yang disetujui. Titik akhir juga dapat diakses melalui layanan jaringan privat seperti AWS PrivateLink atau Google Cloud Private Service Connect agar lalu lintas tidak melewati internet publik. Dokumentasi tersebut menyatakan bahwa layanan khusus untuk satu pelanggan mendukung program kepatuhan yang sama dengan Baseten Cloud, yang mencakup SOC 2 Type II, HIPAA, dan GDPR, serta tersedia dengan harga khusus pada paket Enterprise.

Halaman produk Dedicated Inference Baseten menyatakan bahwa penerapan khusus hanya digunakan oleh satu pelanggan, dapat dibatasi ke wilayah tertentu, serta mematuhi HIPAA dan tersertifikasi SOC 2 Type II di Baseten Cloud. Pelanggan dapat menerapkan layanan di Baseten Cloud, menghostingnya sendiri, atau menggunakan Baseten Hybrid, dengan penskalaan otomatis di berbagai simpul, klaster, cloud, dan wilayah.

Penyetelan Khusus, Kapasitas Terjamin, dan Waktu Aktif

Pelanggan dapat menyetel model Runway menggunakan data mereka sendiri agar hasilnya mencerminkan merek, kanon, dan pedoman konten mereka. Pekerjaan tersebut diatur oleh lisensi langsung dengan Runway, sementara Baseten menyediakan infrastruktur untuk melakukan penyetelan khusus dan menerapkan model yang dihasilkan di lingkungan khusus.

Penerapan mencakup kapasitas GPU terjamin untuk beban kerja pembuatan video, dengan penskalaan otomatis untuk menangani lonjakan permintaan. Dalam model khusus untuk satu pelanggan, Baseten menyediakan dan mengoperasikan kapasitas bagi setiap bidang beban kerja khusus. Pelanggan bekerja sama dengan tim Baseten untuk memilih wilayah, jenis GPU, dan komitmen kapasitas yang sesuai dengan kebutuhan beban kerja.

Baseten mengatakan bahwa Amazon, Robinhood, Dolce & Gabbana, dan Microsoft termasuk di antara tim kreatif perusahaan yang telah menggunakan Runway dalam produksi. Perusahaan itu mengatakan bahwa mereka mendukung penerapan khusus dengan SLA waktu aktif 99.99%, dan kedua model Runway tercantum dalam pustaka model Baseten untuk pertanyaan tentang penerapan.