Baseten lisää Runwayn Gen-4.5- ja Aleph 2.0 -mallit dedikoituun inferenssiin

Yritykset voivat nyt ottaa Runwayn videon generointi- ja muokkausmallit Gen-4.5:n ja Aleph 2.0:n käyttöön Basetenin suojatuissa, yhden asiakkaan ympäristöissä, myös hienosäädettyinä versioina, Basetenin 14. lokakuuta 2026 julkaiseman ilmoituksen mukaan. Mallit ovat saatavilla Baseten Dedicated Inference -palvelussa, ja mallien painot lisensoidaan suoraan Runwaylta.

Basetenin mukaan Runway kehittää malleja, joilla voi luoda ja muokata elokuvamaista videota tekstin, kuvien, äänen ja olemassa olevan kuvamateriaalin avulla. Gen-4.5 ja Aleph 2.0 ovat jo saatavilla Runway Creative -palvelussa, joka on videoiden, kuvien ja äänen luomiseen ja muokkaamiseen tarkoitettu alusta, sekä Runway Devissä, joka on kehittäjille suunnattu API-alusta. Basetenin mukaan kumppanuus tuo käyttöön uuden vaihtoehdon: Runway tarjoaa omat videomallinsa dedikoitavaksi Basetenissä.

Gen-4.5:n generointi ja Aleph 2.0:n muokkaus

Gen-4.5 muuntaa teksti- ja kuvat syötteiksi videoksi. Se tukee kohtausten yksityiskohtaista ohjausta, kameran liikettä ja monenlaisia visuaalisia tyylejä. Baseten mainitsee käyttötarkoituksiksi kuvakäsikirjoituksen visualisoinnin, tuotekuvan animoinnin, elokuvamaisen täydentävän kuvamateriaalin luomisen sekä kampanjaidean sovittamisen useiksi muunnelmiksi.

Basetenin mallikirjastossa Gen-4.5 kuvataan Runwayn kehittämäksi videon generointimalliksi, joka tuottaa elokuvamaista liikettä, noudattaa kehotteita tarkasti, mallintaa fysiikkaa realistisesti ja tuottaa tasalaatuista visuaalista jälkeä. Ajallinen jatkuvuus säilyy hyvin sekä fotorealistisessa että tyylitellyssä ilmeessä. Mallikirjaston tiedoissa mainitaan teksti- ja kuvasyötteet, videotuloste sekä Runwayn oma lisenssi.

Aleph 2.0 muokkaa generoituja tai todellisia videoita. Käyttäjät voivat muuttaa yksittäistä elementtiä tai uudistaa kohtauksen visuaalista tyyliä kehotteen tai muokatun avainruudun pohjalta ja siirtää sitten muutoksen asiaankuuluviin otoksiin säilyttäen samalla ympäröivät yksityiskohdat. Malli tukee useasta kohtauksesta koostuvia, enintään 30 sekunnin mittaisia videoita 1080p-tarkkuudella.

Basetenin mallikirjastossa Aleph 2.0 kuvataan videon kontekstuaaliseksi muokkausmalliksi, jolla olemassa olevasta kuvamateriaalista voi luoda uusia muunnelmia ilman uusintakuvauksia tai laajaa jälkituotantoa. Mallikirjaston mukaan sillä voi muokata tuotteita, vaatteita, kampauksia, taustoja, vuodenaikoja, rajausta ja visuaalisia tyylejä useissa otoksissa. Tiedoissa mainitaan teksti-, kuva- ja videosyötteet, videotuloste sekä Runwayn oma lisenssi.

Lisensointi, eristäminen ja tietoturva

Asiakkaat lisensoivat Runwayn mallien painot suoraan Runwaylta ja ottavat ne käyttöön Basetenin suojatussa, yhden asiakkaan ympäristössä. Kukin käyttöönotto toimii eristetyssä työkuormatasossa, jolla on omat GPU-resurssit, ja Baseten hallinnoi ohjaustasoa ja taustalla olevaa infrastruktuuria. Runway ja Baseten tukevat kutakin käyttöönottoa yhdessä mallin mukauttamisesta tuotantokäyttöön asti.

Järjestelyssä laskenta ja ajoitus eristetään asiakasorganisaation käyttöön. Basetenin pääsy Runwayn mallien painoihin perustuu jakelusopimukseen, ja käyttöönotot toimivat infrastruktuurissa, jota koskevat Basetenin SOC 2 Type II- ja HIPAA-vaatimustenmukaisuusohjelmat.

Basetenin yhden asiakkaan ympäristöä koskeva dokumentaatio sisältää lisätietoja arkkitehtuurista. Sen mukaan yhden asiakkaan ympäristössä inferenssityökuormat suoritetaan eristetyssä VPC:ssä Baseten Cloudissa. Laskenta ja verkkoyhteydet otetaan käyttöön ja niitä ylläpidetään yhden organisaation tarpeisiin, eikä samassa infrastruktuurissa suoriteta muiden asiakkaiden työkuormia. Dokumentaation mukaan Baseten ei tallenna synkronisen inferenssin syötteitä tai tulosteita, mallit voivat hakea painot yksityisestä lähteestä ja painot voidaan tallentaa klusteriin kylmäkäynnistysten nopeuttamiseksi. Pyynnöstä mallien replikoita ja niitä tukevia palveluja voidaan käyttää ilman suoraa internetyhteyttä, ja lähtevä liikenne voidaan rajata hyväksyttyjen kohteiden luetteloon. Päätepisteet voidaan myös tuoda saataville yksityisten verkkopalvelujen, kuten AWS PrivateLinkin tai Google Cloud Private Service Connectin, kautta, jolloin liikenne pysyy julkisen internetin ulkopuolella. Dokumentaation mukaan yhden asiakkaan ympäristö tukee samoja vaatimustenmukaisuusohjelmia kuin Baseten Cloud, mukaan lukien SOC 2 Type II, HIPAA ja GDPR. Palvelu on saatavilla Enterprise-sopimuksella mukautettuun hintaan.

Basetenin Dedicated Inference -tuotesivulla kerrotaan, että dedikoidut käyttöönotot ovat yhden asiakkaan ympäristöjä, ne voidaan rajata tiettyyn alueeseen ja ne ovat HIPAA-vaatimusten mukaisia sekä SOC 2 Type II -sertifioituja Baseten Cloudissa. Asiakkaat voivat ottaa ne käyttöön Baseten Cloudissa, ylläpitää niitä itse tai käyttää Baseten Hybrid -ratkaisua. Automaattinen skaalaus toimii solmujen, klustereiden, pilviympäristöjen ja alueiden välillä.

Hienosäätö, varattu kapasiteetti ja käytettävyys

Asiakkaat voivat hienosäätää Runwayn malleja omalla datallaan, jotta tulosteet vastaavat heidän brändiään, sisältökaanonaan ja sisältöohjeitaan. Työtä säätelee suora lisenssi Runwayn kanssa, ja Baseten tarjoaa infrastruktuurin hienosäätöön sekä näin saadun mallin käyttöönottoon dedikoidussa ympäristössä.

Käyttöönottoihin sisältyy videon generointityökuormille varattua GPU-kapasiteettia, ja automaattinen skaalaus auttaa käsittelemään kysyntäpiikkejä. Yhden asiakkaan mallissa Baseten hankkii ja ylläpitää kapasiteetin kullekin dedikoidulle työkuormatasolle. Asiakkaat valitsevat yhdessä Basetenin tiimin kanssa alueet, GPU-tyypit ja kapasiteettisitoumukset työkuormien vaatimusten mukaan.

Basetenin mukaan Amazon, Robinhood, Dolce & Gabbana ja Microsoft kuuluvat yritysten luoviin tiimeihin, jotka käyttävät Runwayta jo tuotannossa. Yhtiö kertoi tukevansa omistettuja käyttöönottoja 99,99 prosentin käytettävyystakuulla, ja molemmat Runwayn mallit löytyvät Basetenin mallikirjastosta käyttöönottoa koskevia tiedusteluja varten.