Baseten incorpora Gen-4.5 y Aleph 2.0 de Runway a su servicio de inferencia dedicada

Las empresas ya pueden implementar los modelos de generación y edición de video Gen-4.5 y Aleph 2.0 de Runway, incluidas las versiones ajustadas, en entornos seguros de inquilino único en Baseten, según el anuncio de Baseten del 14 de octubre de 2026. Los modelos están disponibles a través de Baseten Dedicated Inference, con pesos licenciados directamente por Runway.

Según Baseten, Runway desarrolla modelos que generan y editan videos cinematográficos a partir de texto, imágenes, audio y metraje existente. Runway ya ofrece Gen-4.5 y Aleph 2.0 a través de Runway Creative, su plataforma para generar y editar videos, imágenes y audio, y de Runway Dev, su plataforma de API para desarrolladores. Baseten afirmó que la colaboración abre una nueva vía: Runway pone sus modelos de video propietarios a disposición para su implementación dedicada en Baseten.

Generación con Gen-4.5 y edición con Aleph 2.0

Gen-4.5 convierte texto e imágenes en videos y permite indicar escenas con detalle, definir movimientos de cámara y elegir entre diversos estilos visuales. Entre los usos que enumera Baseten están visualizar un guion gráfico, animar una imagen de producto, crear planos de recurso cinematográficos y adaptar una idea de campaña a múltiples variaciones.

La biblioteca de modelos de Baseten describe Gen-4.5 como un modelo de generación de video desarrollado por Runway que ofrece movimiento cinematográfico, seguimiento preciso de las instrucciones, física realista y calidad visual uniforme, además de una gran coherencia temporal en estilos fotorrealistas y estilizados. La ficha de la biblioteca indica que admite texto e imágenes como entrada, genera videos y cuenta con una licencia propietaria de Runway.

Aleph 2.0 modifica metraje generado o real. A partir de una instrucción o de un fotograma clave editado, los usuarios pueden cambiar un elemento concreto o modificar el estilo de una escena y aplicar después esa edición a los planos pertinentes, conservando los detalles del entorno. El modelo admite videos con múltiples escenas de hasta 30 segundos a 1080p.

La biblioteca de Baseten describe Aleph 2.0 como un modelo de edición de video contextual que transforma metraje existente en nuevas variaciones sin volver a rodar ni realizar un posprocesamiento exhaustivo. Según la ficha, puede modificar productos, ropa, peinados, fondos, estaciones, encuadres y estilos visuales en varios planos. También indica que admite texto, imágenes y videos como entrada, genera videos y cuenta con una licencia propietaria de Runway.

Licencias, aislamiento y seguridad

Los clientes obtienen las licencias de los pesos de los modelos de Runway directamente de Runway y los implementan en un entorno seguro de inquilino único en Baseten. Cada implementación se ejecuta en un plano de cargas de trabajo aislado, con recursos de GPU exclusivos, mientras Baseten gestiona el plano de control y la infraestructura subyacente. Runway y Baseten brindan asistencia conjunta para cada implementación, desde la personalización del modelo hasta su puesta en servicio en producción.

En virtud del acuerdo, los recursos de cómputo y la programación se aíslan para la organización del cliente. El acceso de Baseten a los pesos de los modelos de Runway se rige por un acuerdo de distribución, y las implementaciones se ejecutan en una infraestructura cubierta por los programas de cumplimiento de Baseten con SOC 2 Tipo II y HIPAA.

La documentación sobre entornos de inquilino único de Baseten aporta más detalles sobre la arquitectura. Indica que la inferencia en estos entornos se ejecuta en una VPC aislada en Baseten Cloud, con recursos de cómputo y redes aprovisionados y operados para una sola organización, y que en esa infraestructura no se ejecutan cargas de trabajo de otros clientes. Según la documentación, Baseten no almacena las entradas ni las salidas de inferencia síncrona; los modelos pueden obtener los pesos de una fuente privada y estos pueden almacenarse en caché dentro del clúster para acelerar los arranques en frío. Si se solicita, las réplicas de los modelos y los servicios auxiliares pueden ejecutarse sin acceso directo a Internet, con el tráfico saliente limitado a una lista de permitidos aprobada. Además, los puntos de conexión pueden exponerse mediante servicios de redes privadas, como AWS PrivateLink o Google Cloud Private Service Connect, para que el tráfico no pase por la Internet pública. La documentación indica que los entornos de inquilino único admiten los mismos programas de cumplimiento que Baseten Cloud, incluidos SOC 2 Tipo II, HIPAA y GDPR, y que están disponibles con precios personalizados en el plan Enterprise.

La página del producto Dedicated Inference de Baseten indica que las implementaciones dedicadas son de inquilino único, pueden limitarse a una región y cumplen con HIPAA y cuentan con la certificación SOC 2 Tipo II en Baseten Cloud. Los clientes pueden implementar en Baseten Cloud, alojar el servicio por su cuenta o usar Baseten Hybrid, con autoescalado entre nodos, clústeres, nubes y regiones.

Ajuste fino, capacidad reservada y disponibilidad

Los clientes pueden ajustar los modelos de Runway con sus propios datos para que los resultados reflejen su marca, su universo narrativo y sus pautas de contenido. Ese trabajo se rige por la licencia directa con Runway, mientras que Baseten proporciona la infraestructura necesaria para realizar el ajuste fino e implementar el modelo resultante en un entorno dedicado.

Las implementaciones incluyen capacidad de GPU reservada para cargas de trabajo de generación de video, con autoescalado para responder a los picos de demanda. En el modelo de inquilino único, Baseten adquiere y opera la capacidad para cada plano de cargas de trabajo dedicado, y los clientes trabajan con el equipo de Baseten para elegir las regiones, los tipos de GPU y los compromisos de capacidad que se ajusten a los requisitos de sus cargas de trabajo.

Baseten afirmó que Amazon, Robinhood, Dolce & Gabbana y Microsoft se encuentran entre los equipos creativos de grandes empresas que ya utilizan Runway en producción. La empresa señaló que respalda las implementaciones dedicadas con un SLA de disponibilidad del 99,99 %, y que ambos modelos de Runway figuran en la biblioteca de modelos de Baseten para consultas sobre su implementación.