Baseten ajoute Gen-4.5 et Aleph 2.0 de Runway à son offre d’inférence dédiée

Les entreprises peuvent désormais déployer les modèles de génération et de montage vidéo Gen-4.5 et Aleph 2.0 de Runway, y compris des versions affinées, dans des environnements sécurisés à locataire unique sur Baseten, selon l’annonce de Baseten du 14 octobre 2026. Les modèles sont disponibles dans l’offre d’inférence dédiée de Baseten, leurs poids étant concédés sous licence directement par Runway.

Selon Baseten, Runway développe des modèles capables de générer et de monter des vidéos cinématographiques à partir de texte, d’images, d’audio et de séquences existantes. Runway propose déjà Gen-4.5 et Aleph 2.0 par l’intermédiaire de Runway Creative, sa plateforme de génération et de montage de vidéos, d’images et d’audio, ainsi que de Runway Dev, sa plateforme d’API destinée aux développeurs. Baseten indique que ce partenariat ouvre une nouvelle voie : Runway met ses modèles vidéo propriétaires à disposition pour un déploiement dédié sur Baseten.

Génération avec Gen-4.5 et montage avec Aleph 2.0

Gen-4.5 transforme des entrées textuelles et des images en vidéo, avec la prise en charge d’instructions détaillées pour les scènes, des mouvements de caméra et d’un large éventail de styles visuels. Baseten cite plusieurs utilisations possibles : visualiser un storyboard, animer une image de produit, créer des séquences d’illustration cinématographiques et décliner un concept de campagne en plusieurs variantes.

Dans la bibliothèque de modèles de Baseten, Gen-4.5 est présenté comme un modèle de génération vidéo développé par Runway, qui produit des mouvements cinématographiques, suit précisément les instructions, simule une physique réaliste et offre une qualité visuelle constante, avec une forte cohérence temporelle dans des styles aussi bien photoréalistes que stylisés. La fiche indique que le modèle accepte du texte et des images en entrée, produit des vidéos et est soumis à une licence propriétaire de Runway.

Aleph 2.0 modifie des séquences générées ou réelles. À partir d’une instruction ou d’une image clé retouchée, les utilisateurs peuvent modifier un élément précis ou changer le style d’une scène, puis appliquer cette modification aux plans concernés tout en préservant les détails environnants. Le modèle prend en charge les vidéos composées de plusieurs scènes, d’une durée maximale de 30 secondes et d’une résolution de 1080p.

Dans la bibliothèque de Baseten, Aleph 2.0 est présenté comme un modèle de montage vidéo contextuel qui transforme des séquences existantes en nouvelles variantes sans nouveau tournage ni postproduction approfondie. Selon la fiche, il peut modifier des produits, des vêtements, des coiffures, des arrière-plans, des saisons, le cadrage et les styles visuels dans plusieurs plans. La fiche indique également que le modèle accepte du texte, des images et des vidéos en entrée, produit des vidéos et est soumis à une licence propriétaire de Runway.

Licences, isolation et sécurité

Les clients obtiennent directement de Runway une licence sur les poids de ses modèles et les déploient dans un environnement sécurisé à locataire unique sur Baseten. Chaque déploiement s’exécute dans un plan de charge de travail isolé, avec des ressources GPU dédiées, tandis que Baseten gère le plan de contrôle et l’infrastructure sous-jacente. Runway et Baseten accompagnent conjointement chaque déploiement, de la personnalisation du modèle à son exploitation en production.

Dans le cadre de cet accord, les ressources de calcul et la planification sont isolées pour l’organisation cliente. L’accès de Baseten aux poids des modèles de Runway est régi par un accord de distribution, et les déploiements s’exécutent sur une infrastructure couverte par les programmes de conformité SOC 2 Type II et HIPAA de Baseten.

La documentation de Baseten sur les environnements à locataire unique apporte des précisions sur l’architecture. Elle indique que ce type d’environnement exécute les charges de travail d’inférence dans un VPC isolé de Baseten Cloud, avec des ressources de calcul et de réseau provisionnées et exploitées pour une seule organisation, et qu’aucune charge de travail d’un autre client ne s’exécute sur cette infrastructure. Selon la documentation, Baseten ne stocke pas les entrées ni les sorties de l’inférence synchrone ; les modèles peuvent récupérer leurs poids auprès d’une source privée, et ces poids peuvent être mis en cache dans le cluster afin d’accélérer les démarrages à froid. Sur demande, les répliques des modèles et les services associés peuvent fonctionner sans accès direct à Internet, le trafic sortant étant limité à une liste d’autorisation approuvée. Les points de terminaison peuvent être exposés par l’intermédiaire de services de réseau privé tels qu’AWS PrivateLink ou Google Cloud Private Service Connect, de sorte que le trafic ne passe pas par l’Internet public. La documentation précise que l’offre à locataire unique prend en charge les mêmes programmes de conformité que Baseten Cloud, notamment SOC 2 Type II, HIPAA et RGPD, et qu’elle est proposée à un tarif personnalisé dans le cadre de l’offre Enterprise.

La page produit d’inférence dédiée de Baseten indique que les déploiements dédiés sont à locataire unique, peuvent être limités à une région et sont conformes à HIPAA et certifiés SOC 2 Type II sur Baseten Cloud. Les clients peuvent effectuer leur déploiement sur Baseten Cloud, l’héberger eux-mêmes ou utiliser Baseten Hybrid, avec une mise à l’échelle automatique sur plusieurs nœuds, clusters, clouds et régions.

Affinage, capacité réservée et disponibilité

Les clients peuvent affiner les modèles de Runway à partir de leurs propres données afin que les résultats reflètent leur marque, leur univers de référence et leurs directives de contenu. La licence directe conclue avec Runway régit ces travaux, tandis que Baseten fournit l’infrastructure nécessaire à l’affinage et au déploiement du modèle obtenu dans un environnement dédié.

Les déploiements comprennent une capacité GPU réservée aux charges de travail de génération vidéo, avec une mise à l’échelle automatique pour absorber les pics de demande. Dans le cadre du modèle à locataire unique, Baseten se procure les capacités nécessaires à chaque plan de charge de travail dédié et les exploite ; les clients travaillent avec l’équipe de Baseten pour choisir les régions, les types de GPU et les engagements de capacité adaptés aux exigences de leurs charges de travail.

Baseten a indiqué qu’Amazon, Robinhood, Dolce & Gabbana et Microsoft comptent parmi les équipes créatives de grandes entreprises qui utilisent déjà Runway en production. L’entreprise a précisé qu’elle accompagne les déploiements dédiés avec un accord de niveau de service garantissant une disponibilité de 99,99 %, et que les deux modèles de Runway figurent dans la bibliothèque de modèles de Baseten pour les demandes de déploiement.